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当前产品半自动掩模光刻机

半自动掩模光刻机

参考价面议
具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称江苏士磐半导体设备有限公司
  • 品       牌
  • 型       号
  • 所  在  地
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2025/4/29 22:04:14
  • 访问次数2
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产品详情

应用范围： *半导体(Semiconductor)
*微机电(MEMS)
*被动组件(Passive Component)
*触控面板(Touch Panel)
*显示器(Display Panel)
*发光二极管(LED)
规格： *Exposure light source: 350W、500W、1KW、2KW
*Substrate Size 2”~8”、8”~12”
*Uniformity: ≦5%
*Alignment Accuracy: +- 1um
*Throughput:≧60 wph

采用对位与光学系统，提供研发单位和使用光刻工艺所需要的弹性设备。适用工业4.0大数据收集。


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发布询价单

江苏士磐半导体设备有限公司

类型：
其他
联系人：
范经理

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商家概况

主营产品：
公司性质：
其他

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