CK500高真空多靶磁控溅射镀膜机

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公司名称磐石创新（江苏）电子装备有限公司
品牌
型号
所在地徐州市
厂商性质其他
更新时间2025/3/8 14:44:39
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产品详情

CK500高真空多靶磁控溅射镀膜机主要由镀膜腔室（φ500×H430mm），永磁圆形平面靶，真空系统，旋转加热基片台，气路系统，电气控制及报警保护系统等组成。

设备特点及主要用途

CK500高真空多靶磁控溅射镀膜机主要由真空专用不锈钢腔室、四只3英寸圆形平面磁控靶；直流、射频溅射电源各一台。机械泵+分子泵高真空系统、旋转、加热基片台（室温至300±1℃可调可控）、机架、气路、水路、逻辑按钮控制及安全保护等组成。该设备选配电源可具备四靶共溅射功能，实现一机多用，可开发纳米级单层或多层的导电膜、金属膜、半导体膜、绝缘膜等。整机结构紧凑、占地小、操作方便、抽真空速度快。

技术参数

真空腔室	φ500×H430mm
真空系统	复合分子泵+直联旋片泵,气动真空阀门
真空极限	优于8.0×10-5Pa
抽速	从大气抽至6.0×10-3Pa≤15min
基片台	基片台尺寸：φ150mm
基片加热与旋转	衬底加热：室温～300℃，自动测温，PID控温；基片旋转：0-50转/分钟，可调可控
溅射靶规格	3英寸，四只
膜厚不均匀性	≤±5%
控制方式	手动按钮控制；（自动控制可选）
报警及保护	缺水报警，强制水冷，过流过压等异常情况自动执行保护功能
占地面积	长×宽: 1700×1600mm