外延片清洗机-CSE

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公司名称华林科纳（江苏）半导体设备有限公司
品牌
型号
所在地南通市
厂商性质其他
更新时间2024/11/14 6:16:36
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产品详情

在LED外延及芯片制造领域，湿法设备占据约40%以上的工艺，随着工艺技术的不断发展，湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备，如SPM酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE蚀刻、PSS高温侧腐、下蜡、匀胶、甩干、掩膜版清洗等。南通华林科纳深入研究LED生产工艺，现已形成可满足LED产业化项目需求的全自动湿法工艺标准成套设备。

LED 芯片的制造工艺流程为：外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P 极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。

外延片清洗机设备

-外延片清洗机设备

设备名称	南通华林科纳-外延片清洗机设备
可处理晶圆尺寸	2”-12”
可处理晶圆材料	硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅、铌酸锂、钽酸锂等
应用领域	集成电路、声表面波（SAW）器件、微波毫米波器件、MEMS器件、封装等
专有技术	系统洁净性技术均匀性技术晶圆片N2干燥技术模块化系统集成技术自动传输及精确控制技术溶液温度、流量和压力的精确控制技术
主要技术特点	系统结构紧凑、安全腔体独立密封，具有多种功能可实现晶圆干进干出采用工控机控制，功能强大，操作简便可根据用户要求提供个性化解决方案
设备制造商	南通华林科纳半导体设备有限公司；