皮带扣真空镀膜机

产品名称：皮带扣真空镀膜机

原理： 物理气相沉积，辉光放电

设备结构：单体，连续线

基材产品：塑料、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品、工艺品、塑料手机壳、电子产品等

膜层种类： 金属膜、复合膜、导电膜、增反射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜

膜层特点： 膜层致命性高，均匀

设备特点： 设备运行中无任何有害气体和废液排放，对自然环境没有污染；不锈钢材质牢固耐用

常用靶材：钛、铬、不锈钢，镍，铜等

电源类型： 直流磁控电源、中频磁控电源、高压离子轰击电源

工艺气体： 氩气、氮气、乙炔、氧气

备注：真空室尺寸可按照客户产品或特殊工艺要求定做

工作原理：磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长，在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，最终沉积在基片上。磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用（ E X B drift）使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓，那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射，多弧镀靶源，离子源，等离子源等都在次原理下工作。所不同的是电场方向，电压电流大小而已。

应用领域：

佛山市金欣盛真空设备有限公司

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