佛山金欣盛厂家供应水龙头真空镀膜机

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公司名称佛山市金欣盛真空设备有限公司
品牌
型号
所在地佛山市
厂商性质其他
更新时间2024/11/11 7:11:34
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产品详情

关于金欣盛

佛山市金欣盛真空设备有限公司成立于2011年，是一家集真空镀膜设备的研发与设计、制造、应用，销售为一体的技术型厂家。拥有经验丰富的研发设计制造团队，优秀的销售团队和售后团队，为客户提供全方面的售前，售中，售后服务。

金欣盛专业生产PVD真空镀膜设备，并提供客户PVD设备销售、真空配件&耗材销售，保养维修、技术咨询、整厂交钥匙等服务。PVD 设备主要包含：多弧离子真空镀膜设备，磁控溅射真空镀膜设备，蒸发系列真空镀膜设备及其他复合型真空镀膜单体和连续线设备，主要用于金属与非金属、塑料、复合材料等的表面处理工程，真空镀膜设备应用到各个行业，包括五金，模具，陶瓷，卫浴，钟表，3C, 光学，化妆品，汽车，通讯等行业。

金欣盛坚持及时专业的服务理念，以品质为先、服务为心、诚信为根、专业为本的经营理念，专注于真空镀膜设备之研发、设计与制造，提供客户专业之解决方案。

金欣盛坚持追求更高的品质和服务，期盼得到客户更多的肯定和支持！

办公环境
设备参数
以下数值仅供参考

性能型号		JXS-DSV-0606	JXS-DSV-0808	JXS-DSV-1010	JXS-DSV-1212	JXS-DSV-1215
镀膜室尺寸		Ф600×H600mm	Ф800×H800mm	Ф1000×H1000mm	Ф1200×H1200mm	Ф1200×H1500mm
用于行业		钟表行业、3C行业、五金行业、精密模具业、工具行业等
用于产品		手表、手机壳、介子、眼镜架、五金、洁具、餐具及刀具、模具等
镀膜效果		Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各类金属石膜（DLC）。
真空室结构		立式前开门结构配置抽气系统及水冷系统
真空获得系统	分子泵	≥2500（L/s）	≥2500（L/s）	≥3600（L/s）	≥4200（L/s）	≥4200（L/s）
	罗茨泵	≥150（L/s）	≥150（L/s）	≥300（L/s）	≥300（L/s）	≥300（L/s）
	机械泵	≥70（L/s）	≥70（L/s）	≥70（L/s）	≥70（L/s）	≥70（L/s）
	维持泵	≥8（L/s）	≥15（L/s）	≥15（L/s）	≥30（L/s）	≥30（L/s）
	备注	可根据客户的要求进行配置
真空测量系统		薄膜规(MKS)、冷阴极(MKS)、皮拉尼(MKS)
电源类型		直流电源、中频电源、脉冲电源
极限真空指标		空载冷态 1.0一 6.0×10-4Pa
电弧源		≥4台	≥6台	≥8台	≥10台	≥12台
		≥200A	≥200A	≥200A	≥200A	≥200A
偏压电源		≥10KW	≥10KW	≥20KW	≥20KW	≥30KW
磁控电源		≥0	≥0	≥0	≥0	≥0
工件转动方式		多轴行星式公自转、变频调速（可控可调）
工件烘烤温度		常温-300℃至450℃-600℃可控可调（PID温控）
工艺气体		3路或4路工艺气体流量控制及显示系统选配自动加气系统
		氩气、氮气、氧气、乙炔等
冷却方式		水冷却循环方式，另配工业冷却水塔或工业冷水机（制冷机)或深冷系统。（客户提供）
控制方式		PLC+触摸屏操作或计算机控制，手动、半自动、自动方式、
供给指标		气压0.5-0.8MPa、水温≤25℃、水压≥0.2MPa、
报警及保护		对泵和靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警，并执行相应保护措施及电气联锁功能。
整机总功率		≤65KW	≤65KW	≤65KW	≤65KW	≤65KW
输出频率		电压380V±5% ，频率50Hz（可根据客户国家用电标准配置）
设备占地面积		≤55m2	≤55m2	≤55m2	≤55m2	≤55m2
备注		可根据用户要求设计制造非标设备，可加装磁控溅射靶、中频孪生对靶等。

设备制作流程
生产环境
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服务承诺

48小时-恢复的

荣誉证书

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应用领域
2017.11.25

多弧离子镀技术的工作原理主要基于冷阴极真空弧光放电理论。图1为多弧离子镀工作原理示意图，点燃真空电弧后，阴极靶材表面上出现一些不连续、大小和形状多样、明亮的斑点,它们在阴极表面迅速地做不规则的游动,一些斑点熄灭时又有些斑点在其他部位形成，维持电弧的燃烧。阴极斑点的电流密度达104~105A/cm2,并且以1000m/s的速度发射金属蒸气，其中每发射10个电子就可发射1个金属原子,然后这些原子再被电离成能量很高的正离子（如Ti+）,正离子在真空室内运行时与其他离子结合（如与N-形成TiN），沉积在工件表面形成涂层。

图1 多弧离子镀工作原理示意图
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图2为真空弧光放电示意图，真空弧光放电理论认为电量的迁移主要借助于场电子发射和正离子电流，这两种机制同时存在，而且相互制约。在放电过程中，阴极材料大量蒸发，这些蒸发原子产生的正离子在阴极表面附近很短的距离内产生的电场，在这样强的电场作用下，电子足以能直接从金属的费米能级逸出到真空，产生所谓的“场电子发射”

图2 真空弧光放电示意图