超硬质涂层真空镀膜机

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公司名称佛山市金欣盛真空设备有限公司
品牌
型号
所在地佛山市
厂商性质其他
更新时间2024/11/11 6:13:32
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产品详情

佛山市金欣盛真空设备有限公司是一家真空镀膜设备，真空镀膜机器制造、设计、应用的技术型厂家。公司位于环境优美的佛山市。

      佛山市金欣盛真空设备有限公司集研发、生产、销售为一体。具有优质的售后服务团队，公司目前拥有在职教授一名，参与过国产台多弧离子镀膜机、真空离子注入设备的设计与生产，曾经支持过国内外多家镀膜设备企业及生产企业的创办。高、中级以上专业技术职称人员多名，专门指导和负责公司真空镀膜机新产品研发与设计，设计概念，科技技术，确保真空设备产品高品质、高水准。
      本公司先后开发出的镀膜工艺，为镀膜生产企业的发展，提供了有力的技术支持，得到了广大客户高度赞誉。特别近几年来，随着真空镀膜技术的进步，公司重点发展连续式磁控镀膜生产线及离子镀膜技术，包括非平衡磁控、中频磁控溅射、多弧离子镀、离子源辅助镀膜和多种技术功能的结合，同时结合各大高校研究所，对新材料与镀膜工艺的不断摸索开发，设备设计与工艺精益求精，开发出新一代的工艺解决方案和真空镀膜设备，镀膜水平得到了极大的进步。
      本公司生产的真空镀膜设备系列：多弧离子镀膜设备，中频磁控真空镀膜设备，蒸发真空镀膜设备，电子枪镀膜设备，工具专用镀膜设备，黄金管专用镀膜机，连续式镀膜生产线等真空镀膜设备。各类真空电镀设备广泛用于光学、灯管、电子、陶瓷、玻璃、马赛克、建材、五金、刀具、工模具、钟表、医疗、汽车、航天等高科技产业方面，已成功地为客户开发满足各种不同要求的镀膜工艺方案。
      宁可不做设备，也不糊弄客户，本着及时专业、全面主动的经营理念，发挥技术、坚持创新的企业宗旨，用品质和服务回报客户。站在客户的角度思考问题，为客户节约每一点一滴，也是我公司制造绿色环保真空镀膜设备的目标，竭诚为您提供优质的真空镀膜设备。
办公环境
设备参数
以下数值仅供参考

性能型号		JXS-DSV-1416	JXS-DSV-1618	JXS-DSV-1822	JXS-DSV-2030	JXS-DSV-2236
镀膜室尺寸		Ф1400×H1600mm	Ф1600×H1800mm	Ф1800×H2200mm	Ф2000×H3000mm	Ф2200×H3600mm
用于行业		五金行业、装饰装潢行业、家用家电行业等
用于产品		小五金行业等
镀膜效果		钛金、玫瑰金、香槟金、日本金、炫银、七彩、宝石兰、玫瑰红、黑色等
真空室结构		立式前开门结构配置抽气系统及水冷系统
真空获得系统	扩散泵	≥16000（L/s）	≥26000（L/s）	≥26000（L/s）	≥36000（L/s）	≥42000（L/s）
	罗茨泵	≥300（L/s）	≥1200（L/s）	≥1200（L/s）	≥1200（L/s）	≥1200（L/s）
	机械泵	≥140（L/s）	≥140（L/s）	≥140（L/s）	≥210（L/s）	≥210（L/s）
	维持泵	≥30（L/s）	≥30（L/s）	≥30（L/s）	≥30（L/s）	≥30（L/s）
	备注	可根据客户的要求进行配置
真空测量系统		薄膜规(MKS)、冷阴极(MKS)、皮拉尼(MKS)
电源类型		直流电源、中频电源、脉冲电源
极限真空指标		空载冷态 1.0一 6.0×10-4Pa
电弧源		≥12台	≥14台	≥16台	≥20台	≥24台
		≥200A	≥200A	≥200A	≥200A	≥200A
偏压电源		≥30KW	≥30KW	≥40KW	≥40KW	≥40KW
磁控电源		≥0	≥0	≥0	≥0	≥0
工件转动方式		多轴行星式公自转、变频调速（可控可调）
工件烘烤温度		常温-300℃至450℃-600℃可控可调（PID温控）
工艺气体		3路或4路工艺气体流量控制及显示系统选配自动加气系统
		氩气、氮气、氧气、乙炔等
冷却方式		水冷却循环方式，另配工业冷却水塔或工业冷水机（制冷机)或深冷系统。（客户提供）
控制方式		PLC+触摸屏操作或计算机控制，手动、半自动、自动方式、
供给指标		气压0.5-0.8MPa、水温≤25℃、水压≥0.2MPa、
报警及保护		对泵和靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警，并执行相应保护措施及电气联锁功能。
整机总功率		≤65KW	≤80KW	≤100KW	≤120KW	≤120KW
输出频率		电压380V±5% ，频率50Hz（可根据客户国家用电标准配置）
设备占地面积		≤55m2	≤55m2	≤55m2	≤55m2	≤55m2
备注		可根据用户要求设计制造非标设备，可加装磁控溅射靶、中频孪生对靶等。

设备制作流程
生产环境
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服务承诺
48小时-恢复的

荣誉证书
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应用领域
小五金_副本

多弧离子镀技术的工作原理主要基于冷阴极真空弧光放电理论。图1为多弧离子镀工作原理示意图，点燃真空电弧后，阴极靶材表面上出现一些不连续、大小和形状多样、明亮的斑点,它们在阴极表面迅速地做不规则的游动,一些斑点熄灭时又有些斑点在其他部位形成，维持电弧的燃烧。阴极斑点的电流密度达104~105A/cm2,并且以1000m/s的速度发射金属蒸气，其中每发射10个电子就可发射1个金属原子,然后这些原子再被电离成能量很高的正离子（如Ti+）,正离子在真空室内运行时与其他离子结合（如与N-形成TiN），沉积在工件表面形成涂层。

图1 多弧离子镀工作原理示意图
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图2为真空弧光放电示意图真空弧光放电理论认为电量的迁移主要借助于场电子发射和正离子电流，这两种机制同时存在，而且相互制约。在放电过程中，阴极材料大量蒸发，这些蒸发原子产生的正离子在阴极表面附近很短的距离内产生的电场，在这样强的电场作用下，电子足以能直接从金属的费米能级逸出到真空，产生所谓的“场电子发射”

图2 真空弧光放电示意图