高真空镀膜机

简介 ：

Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于*高分辨率分析。

这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。

适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统，是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。

适用于广泛应用的高真空镀膜系统

EM ACE600 溅射镀膜机配备可配置的金属处理室，非常灵活，可以适应广泛的应用。通过在单个制备过程中运行多达两个不同的源，甚至为高级冷冻工作流程配置 EM ACE600，实现您的工作流程目标并满足您实验室的需求。

l  对平面或结构化的非导电样品进行高分辨率成像

l  增强纳米级结构的对比度，例如蛋白质或 DNA 链

l  为 TEM 网格生产薄而坚固的支撑层或

l  为敏感样品提供保护层

l  扩展冷冻应用系统

具有溅射涂层的可重现的高质量薄膜

使用 EM ACE600 高真空镀膜系统，每次运行都能始终如一地生产出高质量的溅射镀膜薄膜。凭借基于的自动化溅射镀膜工艺，满足您镀膜需求的正确条件并获得可重复的结果。

执行高达 200kX 及更高倍率的高倍 SEM 分析，具有 <2x10-6 mbar 的出色基础真空和一系列溅射靶材的精细平衡工艺参数。根据样品形态的需要调整样品距离和涂层角度。

为了进一步提高镀膜效果，您可以使用Meissner trap将真空增加到 10-7 毫巴范围，然后尝试溅射靶材或对氧气敏感的样品材料。

具有碳涂层的可重复的高质量薄膜

使用 EM ACE600，您可以通过使用碳螺纹涂层、碳棒涂层或电子束蒸发来生产高质量的碳膜。

碳丝蒸发已成为一种广泛使用的方法

Leica Microsystems 开发了的自适应脉冲方法，应用于 EM ACE600。它可以生产亚纳米厚度的**、坚固和非晶薄膜，同时*大限度地减少对样品的热影响。无论您是需要纳米级薄、坚固且清洁的 TEM 支撑层、扩散（保护）涂层，还是大型均质碳层，碳线都是正确的选择。

对于专用应用，例如旋转阴影，您可以使用电子束蒸发器。其光束发散角小，非常适合用于阴影涂层，以增强纳米级结构的边缘对比度。

根据您的需求调整 EM ACE600

由于 EM ACE600 的大型可配置金属处理室，可以在不破坏真空的情况下在一台涂布机中运行多个工艺。同时，将溅射头与的碳丝蒸发器相结合，或选择两个溅射源，在单个制备过程中实现多层金属涂层。

l  得益于优化的双源概念，带有两个倾斜端口和一个旋转载物台，在整个 100 mm 载物台上生产均匀分布的薄膜

l  从坚固的碳线、电子束和溅射镀膜机源中选择

l  为您的 EM ACE600 配备辉光放电溅射

l  可随时现场升级

专注于准备过程的关键部分

使用 EM ACE600 碳和溅射镀膜机，只需按一个按钮即可完成您的常规样品制备。简单可靠的工作流程和方便的标准操作程序使您能够专注于 EM 样品制备的关键部分。您可以专注于优化您的工作流程，减少学习如何操作系统或培训他人如何使用系统的时间。

l  通过前门安全装载和卸载敏感样品

l  基于工作流的用户界面和对相关参数的快速访问指导方式

l  重量轻、坚固耐用的光源，便于日常处理